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高溫加熱臺適用于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝的，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化?？稍诠さV企業(yè)、科研、教育等單位進行老化、溫度試驗及干燥、烘焙和熱處理等作生產、科研、教學之用.

加熱臺 英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. 400度精密恒溫高溫加熱臺烤膠機(升級版):控溫范圍為室溫至400度

烤膠機適用于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝的，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。

晶圓烤膠機英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-350BP型加熱臺，控溫范圍為室溫至350度

加熱臺 英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-400DG型加熱臺（不帶蓋），控溫范圍為室溫至400度

高溫加熱臺英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-230ZK型加熱臺，可抽真空，充氮氣及其他惰性氣體控溫范圍為室溫至230度（可按需求訂制不同規(guī)格、溫度）